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1944년, 시약 전문 업체로 창업한 KANTO CHEMICAL은
현재 전자재료, 의약품, 일반 화학품 등 다방면의 화학제품을 생산합니다.
특히 반도체 제조용 고순도 제품에 강점을 가지고 있습니다.

KANTO CHEMICAL화학은 1944년 시약 전문 업체로 창업하였습니다.
이후 다양한 화학품으로 사업 영역을 확장하면서, 1964년에는 세계적으로 앞서서 반도체 제조 공정용 고순도 제품 제조 판매를 시작하였습니다.

현재 반도체 뿐만 아니라 디스플레이 산업에서도 고기능성 Ecthing액과 세정액, 박리액 등 KANTO CHEMICAL의 초고순도 제품이 사용되고 있습니다.

Functional Chemicals

  • Post CMP cleaner
    Post CMP cleaning solution for Cu-CMP, W-CMP, Co-CMP, ILD-CMP.
  • Etchant
    Etching solution for Au, Ag, Cu, Ru, Al, ITO, Si, Metal oxide semiconductor, piezoelectric film and stacked film.
    There are other etchant for various metals besides the items listed in above.
  • Dry etching residuals remover
    Post dry etching cleaning solution for Al process and Cu/low-k process.
  • Resist Stripper and Developer
    Stripping solution and develpoer for Posi/Nega type resist.

Acid/Alkaline

  • Acetic Acid
  • Hydrochloric Acid
  • Hydrofluoric Acid
  • Nitric Acid
  • Phosphoric Acid
  • Sulfuric Acid
  • Hydrogen Peroxide
  • Ammonium Fluoride aq. Solution
  • Citric Acid aq. Solution
  • Tartaric Acid aq. Solution
  • Perchloric Acid
  • Sodium Hydroxide aq. Solution (NaOH)
  • Potassium Hydroxide aq. Solution (KOH)
  • 48% KOH Low metal (KOHLM)
  • Tetramethylammonium Hydroxide aq. Solution (TMAH-22 / TMAH-25)
  • 50% Cerium(IV) Diammonium Nitrate aq. Solution

Solvents

  • Acetone
  • 2-Butanone (MEK)
  • n-Butyl Acetate
  • Ethanol (99.5%)
  • Denaturated Ethanol
  • Ethyl Acetate
  • Isopentyl Acetate
  • Methanol
  • 4-Methyl-2-Pentanone (MIBK)
  • 2-Propanol (IPA)
  • Toluene
  • Xylene
  • Cyclohexanone
  • 2-Ethoxyethyl Acetate
  • Propylene Glycol Methyl Ether Acetate (PGMEA)
  • N-Methyl-2-Pyrrolidinone (NMP)
  • EL-GBL (γ-Butyrolactone)

상기 Line up 이외에도 여러 종류의 Wet Chemical을 취급하고 있습니다.  별도 문의 부탁 드립니다.